Fe-N薄膜相关论文
随着电子信息产业的迅速发展,要求电子元器件向小型化、高频化和集成化的方向发展,这便对作为电子元器件的核心即软磁材料提出了更......
Fe-N化合物材料是一类典型的磁性材料,在磁性存储以及磁电子器件领域有着广阔的应用前景。其中的ε-Fe2～3N材料具有室温铁磁性,尤其......
采用射频磁控溅射法制备了具有高饱和磁化强度的 Fe-N 薄膜。系统研究了氮气分压、基底温度，溅射功率等制备工艺条件对 Fe-N 薄膜结......
Fe-N 薄膜因其具有高饱和磁化强度、低矫顽力,有望获得较高的微波磁导率,而在集成化微磁器件、抗电磁干扰以及新型雷达波吸收材料......
铁氮化合物是一种重要的铁基合金,具有优异的耐腐蚀性,机械硬度和磁学性质,这使得其在钢材的保护层、催化媒介、磁性液体、磁记录......
本文报道了采用RF磁控溅射制备出了高性能的Fe-N薄膜,膜厚约200nm,磁场热处理后薄膜中含有α′和少量γ′,具有优质的软磁性能,饱......
